Фоторезист

Фоторезист — материал, способный полимеризоваться либо разрушаться под действием света и служащий для получения рисунков методом фотолитографии.

При изготовлении печатных плат фоторезист применяется для защиты отдельных областей при травлении и гальваническом наращивании.

Фоторезисты делятся на сухие, пленочные и жидкие. Оба вида материалов наносятся на поверхность платы, образуя пленку, после чего путем экспонирования через фотошаблон или с помощью фотоплоттера производится полимеризация тех участков, которые должны быть защищены. Затем выполняется проявление фоторезиста, при котором с помощью растворителя удаляются неполимеризованные или разрушенные воздействием света участки.

Если фоторезист разрушается под действием света и остается на тех участках, которые не подвергались данному воздействию, фоторезист называют позитивным. Полимеризующийся под действием света материал называют негативным фоторезистом.

Важным параметром фоторезиста является его разрешающая способность, т. е. размер минимального элемента рисунка, получаемого с его помощью. Данный размер прямо пропорционален длине волны используемого при экспонировании света, к которому чувствителен данный материал.